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半世紀にわたるファインライン技術を凝縮 フォトマスク

フォトマスクの概要 フォトリソグラフィのコア技術が半導体や電子部品の進化を牽引

フォトマスクの活躍するフィールド。マイクロデバイズや各種基板、表示体などIT機器の基板技術を支えている

ミタニ マイクロニクス九州は、「フォトリソグラフィ」[※1] 用の原版「フォトマスク」を通じ、次世代のアプリケーションを支える各種電子部品、半導体を中心とする様々なマイクロデバイス(半導体パッケージ、パワーデバイス等 [※2] )、各種基板(多層、部品内蔵、BUMP等)、表示体(液晶、有機EL、FPD、タッチパネル等)など、様々な製品の生産用としてマスク製造に関わり続け、創業以来、約半世紀にわたり、より高精度、高精細な製品供給を心がけてまいりました。

ミタニ マイクロニクス九州がご提供するフォトマスク製品として、

の3種類をご用意しています。マスクを露光用、測定用、各種製造装置の位置確認用キャリブレーションマスク [※3] としてご提供いたします。

  • ※1 微細加工技術のひとつ。フォトマスクを原版とし、感光性樹脂を露光、現像、エッチング加工によって主に電子回路パターンを形成する技術
  • ※2 水晶デバイス、MEMS製品、LED製品、電子ペーパー、タッチパネル
  • ※3 「キャリブレーション」とは、測定の調整、装置の調整

描画装置対応表

最新描画システムによって作られる「クロムファインパターン」は、1~100μmの高精細な品質を誇る

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マスク製作の工程フロー フォトマスク作製の工程フロー。最新設備と熟練技術者が担当

ミタニ マイクロニクス九州は、描画データの作成からパターン描画、最終検品まで5つの工程を経て、マスク製造を行います。各工程ともに熟練した弊社専門スタッフが担当。最新設備の性能を活かす技術とノウハウによって、お客様の仕様を満たすフォトマスク製品を作り出します。

STEP1:CADデータから編集、作製

お客様からいただく図面またはデータを元に、フォトマスクのデータを作製・編集いたします。
LSIやPWB、FPD分野などで業界標準形式をサポートしているほか、ベクトルデータやビットマップデータの各種ファイル形式にもご対応できる場合がありますので、ご相談ください。

対応可能なファイル形式

対応可能なファイル形式

STEP2:CAD作業と描画(描画機用)データ作製

お客様からご支給いただいたデータをCADへ読み込み、図形処理や白黒変換処理、描画データの出力 ―― など8段階のプロセスを経てマスクの描画に入ります。

CADデータ処理手順について

対応可能なファイル形式

STEP3:レーザー描画機でパターン描画

レーザー描画機を使い、マスク原版を描画します。レーザー描画は、清浄度レベルクラス100からクラス10,000に準拠したクリーンルームにおいて、経験豊富なベテラン技術者によって作業が行われます。

クリーンルーム(クラス100、クラス1,000、クラス10,000)

温度22℃±1℃ 湿度50% RH±10%

クラス100、クラス1,000、クラス10,000準拠の自社クリーンルームを完備。オペレーションは、最新レーザー描画機の性能を安定かつ最大限に引き出す熟練技術者が担当

STEP4:現像、エッチングの実施

レジスト膜現像処理、エッチングにより、描画部クロム膜を除去します。

STEP5:欠陥検査、測長を行う

マスク製造の最終工程がマスク検査です。当社では測定機用プログラムを作成し、自動検査装置によってマスクの外観検査を行います。自動検査装置での信頼性あるマスク外観検査を採用。
検出方法は、「DRC(デザインルールチェック)」「データ比較」「パターン比較」の3つで、検出最小欠陥は1μmの精度を誇ります。

マスク測定・検査表作成の流れ

マスク測定・検査表作成の流れ

自動測定により欠陥検査と異物検査を実施。高い品質と信頼性を備えたマスク製造を実現。測長機精度は、部分寸法で3σ 0.02μm、位置精度で3σ 0.15μm

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